Acknowledgements
Lett. 1996, 69, 878; s) C. Adachi, K. Nagai, N. Tamoto, Appl. Phys. Lett.
1995, 66, 2679; t) A. Higuchi, H. Inada, T. Kobata, Y. Shirota, Adv. Mater.
1991, 3, 549.
This work was financially supported by NSFC 60868001, the National
High-Technology Research and Development Program of China
(2008AA03A331), the Key Project of the Shanghai Education Committee
(08ZZ42), and the Science and Technology Commission of the Shanghai
Municipality (08PJ14053, 08DZ1140702). Supporting Information is
available online from Wiley InterScience or from the author.
[10] S. A. Vanslyke, C. H. Chen, C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 1996, 65,
2160.
[11] a) L. Q. Huang, Y. Z. Liu, C. J. Yang, C. Yi, J. Liu, P. Qiu, X. C. Gao, Huaxue
Shiji (Chem. Reagents), 2006, 28, 290; b) L. Q. Huang, Y. Z. Liu, C. J. Yang,
C. Yi, J. Liu, X. C. Gao, Gongneng Cailiao yu Qijian Xuebao (J. Funct. Mater.
Devices), 2006, 12, 451; c) X. C. Gao, L. Q. Huang, CN 1775738, 2006.
[12] Q. G. He, H. Z. Lin, Y. F. Weng, B. Zhang, Z. M. Wang, G. T. Lei, L. D. Wang,
Y. Qiu, F. L. Bai, Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 1343.
Received: February 12, 2010
Published online: June 24, 2010
[13] X. C. Gao, CN 200520098133.3, 2006.
[1] a) Y. R. Sun, N. C. Giebink, H. Kanno, B. W. Ma, M. E. Thompson,
S. R. Forrest, Nature (London) 2006, 440, 908; b) M. A. Baldo,
D. F. O’Brien, Y. You, A. Shoustikov, S. Sibley, M. E. Thompson,
S. R. Forrest, Nature (London) 1998, 395, 151; c) X. C. Gao, H. Cao,
C. H. Huang, B. G. Li, S. Umitani, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2217;
d) C. W. Tang, S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913.
[2] Y. Hamada, T. Sano, K. Shibata, K. Kuroki, Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, L824.
[3] a) P. N. M. dos Anjos, H. Aziz, N. Hu, Z. D. Popovic, Org. Electron. 2003, 3,
9; b) S. A. Van Slyke, C. H. Chen, C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 1996, 69,
2160.
[14] R. Dawson, M. W. Windsor, J. Phys. Chem. 1968, 72, 3251.
[15] a) Y. Liu, K. Ye, Y. Fan, W. F. Song, W. Wang, Z. Hou, Chem. Commun.
2009, 3699; b) B. Lim, J. T. Hwang, J. Y. Kim, J. Ghim, D. Vak, Y. Y. Noh,
S. Hyoung Lee, K. Lee, A. J. Heeger, D. Y. Kim, Org. Lett. 2006, 8, 4703;
c) Z. H. Li, M. S. Wong, H. Fukutani, Y. Tao, Org. Lett. 2006, 8, 4271;
d) S. Ito, T. Kubo, N. Morita, T. Ikoma, S. Tero-Kubota, J. Kawakami,
A. Tajiri, J. Org. Chem. 2005, 70, 2285; e) J. Wu, M. Baumgarten,
M. G. Debije, J. M. Warman, K. Mu¨llen, Angew. Chem. 2004, 116, 5445;
f) R. D. Hreha, C. P. George, A. Haldi, B. Domercq, M. Malagoli, S. Barlow,
´
J. L. Bredas, B. Kippelen, S. R. Marder, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 967;
[4] Z. D. Popovic, in: Proc. SPIE, Vol. 3476: Organic Light-Emitting Materials and
Devices II (Ed: Z. H. Kafafi ), San Diego, CA July 1998, p. 68.
[5] Z. Wang, S. Naka, H. Okada, Thin Solid Films 2009, 518, 497.
[6] a) S. C. Xia, R. C. Kwong, V. I. Adamovich, M. S. Weaver, J. J. Brown, in
Reliability Physics Symp., 2007, Proc. 45th Annual IEEE Int. 2007, p. 253; b) Y.
Liew, H. Aziz, N. Hu, H. Chan, G. Xu, Z. Popovic, Appl. Phys. Lett. 2000, 77,
2650.
g) H. Zhao, C. Tanjutco, S. Thayumanavan, Tetrahedron Lett. 2001, 42,
4421; h) J. Louie, J. F. Hartwig, J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 11695;
i) Y. Shirota, Y. Kuwabara, H. Inada, T. Wakimoto, H. Nakada,
Y. Yonemoto, S. Kawami, K. Imai, Appl. Phys. Lett. 1997, 65, 807;
j) Y. Shirota, Y. Kuwabara, D. Okuda, R. Okuda, H. Ogawa, H. Inada,
T. Wakimoto, H. Nakada, Y. Yonemoto, S. Kawami, K. Imai, J. Lumin. 1997,
72, 985; k) H. Kageyama, K. Itano, W. Ishikawa, Y. Shirota, J. Mater. Chem.
1996, 6, 675; l) C. Adachi, K. Nagai, N. Tamoto, Appl. Phys. Lett. 1995, 66,
2679; m) W. Ishikawa, K. Noguchi, Y. Kuwabara, Y. Shirota, Adv. Mater.
1993, 5, 559; n) A. Higuchi, H. inada, T. Kobata, Y. Shirota, Adv. Mater.
1991, 3, 549
`
[7] P. Cusumano, F. Buttitta, A. Di Cristofalo, C. Calı, Synth. Met. 2003, 139,
657.
[8] a) A. Pinato, A. Cester, M. Meneghini, N. Wrachien, A. Tazzoli, S. Xia,
V. Adamovich, M. S. Weaver, J. J. Brown, E. Zanoni, G. Meneghesso, IEEE
Trans. Electron Devices 2010, 57, 178; b) F. P. Rosselli, W. G. Quirino,
C. Legnani, V. L. Calil, K. C. Teixeira, A. A. Leit, R. B. Capaz, M. Cremona,
C. A. Achete, Org. Electron. 2009, 10, 1417; c) S. Scholz, B. Lussem, K. Leo,
Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 183309; d) V. V. Jarikov, D. Y. Kondakov, J. Appl.
Phys. 2009, 105, 034905; e) L. J. Soltzberg, J. D. Slinker, S. F. Torres,
D. A. Bernards, G. G. Malliaras, H. D. Abrun, J. S. Kim, R. H. Friend,
M. D. Kaplan, V. Goldberg, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 7761;
f) Z. D. Popovic, H. Aziz, IEEE J. Selected Topics Quantum Electron.
2002, 8, 362; g) H. Aziz, Z. D. Popovic, N. X. Hu, A. M. Hor, G. Xu,
Science 1999, 283, 1900.
[16] F. Papadimitrakopoulos, X.-M. Zhang, D. L. Thomsen, III, K. A. Higginson,
Chem. Mater. 1996, 8, 1363.
[17] a) B. Wei, K. Furukawa, J. Amagai, M. Ichikawa, T. Koyama, Y. Taniguchi,
Semicond. Sci. Technol. 2004, 19, L56; b) G. G. Malliaras, Y. Shen, D. H.
Dunlap, H. Murata, Z. H. Kafafi, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 2582; c) P. M.
Borsenberger, E. H. Magin, M. Der VanAuweraer, F. C. De Schryver, Phys.
Status Solidi A 1993, 140, 9; d) W. Blom, M. J. M. de Jong, M. G. van
Munster, Phys. Rev. B: Condens. Matter 1997, 55, R656.
[18] a) Y. W. Park, Y. M. Kim, J. H. Choi, B. K. Ju, J. Nanosci. Nanotechnol. 2009,
9, 1607; b) Y. Tao, Q. Wang, Y. Shang, C. Yang, L. Ao, J. Qin, D. G. Ma,
Z. G. Shuai, Chem. Commun. 2009, 77; c) V. Jankus, C. Winscom,
A. P. Monkman, J. Chem. Phys. 2009, 130, 074501; d) W. S. Han,
H. J. Son, K. R. Wee, K. T. Min, S. Kwon, I. H. Suh, S. H. Choi,
[9] a) V. Sivasubramaniam, F. Brodkorb, S. Hanning, O. Buttler, H. P. Loebl,
V. Elsbergen, H. Boerner, U. Scherf, M. Kreyenschmidt, Solid State Sci.
2009, 11, 1933; b) D. Y. Kondakov, R. H. Young, SID Int. Symp. Dig.
Technical Papers 2009, XL, 687; c) D. Y. Kondakov, J. Appl. Phys. 2008, 104,
084520; d) T. Matsushima, H. Murata, J. Appl. Phys. 2008, 104, 034507;
e) Y. J. Lee, H. Lee, Y. Byun, S. Song, J. E. Kim, D. Eom, W. Cha, S. S. Park,
J. Kim, H. Kim, Thin Solid Films 2007, 515, 5674; f) R. P. Tang, Z. A. Tan,
Y. F. Li, F. Xi, Chem. Mater. 2006, 18, 1053; g) J. Y. Li, D. Liu, Y. Q. Li,
C. S. Lee, H. L. Kwong, S. T. Lee, Chem. Mater. 2005, 17, 1208; h) P. Kundu,
K. R. J. Thomas, J. T. Lin, Y. T. Tao, C. H. Chien, Adv. Funct. Mater. 2003, 13,
445; i) D. Y. Kondakov, J. R. Sandifer, C. V. Tang, H. J. Young, J. Appl. Phys.
2003, 93, 1108; j) L.-H. Chan, R.-H. Lee, C.-F. Hsieh, H.-C. Yeh, C.-T. Chen,
J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 6469; k) D. E. Loy, B. E. Koene,
M. E. Thompson, Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 245; l) Z. D. Popovic,
H. Aziz, N. Hu, A. Ioannidis, P. N. M. dos Anjos, J. Appl. Phys. 2001, 89,
4673; m) F. Steuber, J. Staudigel, M. Stossel, J. Simmerer, A. Winnacker,
H. Spreitzer, F. Weissortel, J. Salbeck, Adv. Mater. 2000, 12, 130;
n) B. E. Koene, D. E. Loy, M. E. Thompson, Chem. Mater. 1998, 10,
2235; o) D. F. O’Brien, P. Burrows, S. R. Forrest, B. E. Koene, D. E. Loy,
M. E. Thompson, Adv. Mater. 1998, 10, 1108; p) H. Vestweber, W. Rieß,
Synth. Met. 1997, 91, 81; q) H. Tanaka, S. Tokito, Y. Taga, A. Okada, Chem.
Commun. 1996, 2175; r) S. Tokito, H. Tanaka, a Okada, Y. Taga, Appl. Phys.
D. H. Jung, S. O. Kang, J. Phys. Chem.
C 2009, 113, 19686;
e) S. Y. Takizawa, V. A. Montes, P. Anzenbacher, J. Chem. Mater. 2009,
21, 2452; f) H. S. Bang, D. C. Choo, T. W. Kim, J. H. Park, J. H. Seo,
Y. K. Kim, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 2009, 498, 265; g) M. E. Kondakova,
T. D. Pawlik, R. H. Young, D. J. Giesen, D. Y. Kondakov, C. T. Brown,
J. C. Deaton, J. R. Lenhard, K. P. Klubik, J. Appl. Phys. 2008, 104, 094501;
h) H. Tang, X. R. Wang, Y. Li, W. G. Wang, R. G. Sun, Displays 2008, 29, 502.
[19] a) J. H. Lee, J. I. Lee, J. Y. Lee, H. Y. Chu, Org. Electron. 2009, 10, 1529;
b) X. N. Li, Z. J. Wu, Z. J. Si, H. J. Zhang, L. Zhou, X. J. Liu, Inorg. Chem.
2009, 48, 7740; c) M. H. Tsai, T. H. Ke, H. W. Lin, C. C. Wu, S. F. Chiu,
F. C. Fang, Y. L. Liao, K. T. Wong, Y. H. Chen, C. I. Wu, Appl. Mater. Interfaces
2009, 1, 567; d) K. R. Wee, W. S. Han, H. J. Son, S. N. Kwon, S. O. Kang,
J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 235107; e) M. T. Chu, M. T. Lee, C. H. Chen,
M. R. Tseng, Org. Electron. 2009, 10, 1158; f) J. J. Lin, W. S. Liao,
H. J. Huang, F. Wu, C. H. Cheng, Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 485;
g) H. Fukagawa, K. Watanabe, T. Tsuzuki, S. Tokito, Appl. Phys. Lett.
2008, 93, 133312; h) S. H. Eom, Y. Zheng, N. Chopra, J. Lee, F. So, J. Xue,
Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 133309; i) S. J. Su, E. Gonmori, H. Sasabe, J. Kido,
Adv. Mater. 2008, 20, 4189; j) P. I. Shih, C. H. Chien, C. Y. Chuang, C. F. Shu,
Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 2448–2458
ß 2010 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim
2457